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磁控镀膜中,氧气、氩气,分别起什么作用?气体的多少色彩有什么变化?
氩气:工作气体,该气体在工业生产中离子清洗时和镀膜时都用到,主要作用是轰击靶材。(辉光,蓝色)氧气:反应气体,该气体一般用于反应溅射镀膜中,像镀ITO/SIO2等,还有做其他颜色膜层时都会用到的,主要作用是与溅射出来的靶微粒反应,生产**物。(辉光,红紫色)顺便给你说一下另外的氮气:反应气体,一般做颜色膜层时用到,或者破真空时用到。(辉光,**)氦气:检漏用。光是由于电子跃迁产生的,物质一定,在一定的范围内颜色不变。
溅射靶材的主要应用?
溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子***件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。 分类根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材磁控溅射原理:在被溅射的靶极(*极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大,在*极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的**遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种:支流溅射和射频溅射,其中支流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还司进行反应溅射制备**物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。 磁控溅射镀膜靶材: 金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材,氮化物陶瓷溅射靶材,**物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材,硅化物陶瓷溅射靶材,硫化物陶瓷溅射靶材,碲化物陶瓷溅射靶材,其他陶瓷靶材,掺铬一**硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),砷化铅靶材(PbAs),砷化铟靶材(InAs)。 高纯高密度溅射靶材有: 溅射靶材(纯度:99.9%-99.999%) 1.金属靶材: 镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。 2.陶瓷靶材 ITO靶、AZO靶、**镁靶、**铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、**铬靶、**锌靶、硫化锌靶、二**硅靶、一**硅靶、**铈靶、二**锆靶、五**二铌靶、二**钛靶、二**锆靶,、二**铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三**钨靶,三**二铝靶五**二钽,五**二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、**镍靶等陶瓷溅射靶材。 3.合金靶材 镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射靶材。
镀膜玻璃能代替外遮阳吗?
镀膜玻璃可用用来代替外遮阳低辐射镀膜玻璃,膜层对低温物体(如人体和身边的各种物品)发出的远红外线有强烈的反射作用,因此可以控制辐射热能的流向——冬天采暖时阻挡室内热量流失;夏天制冷时阻挡外部热量进入室内降低空调冷气损失.合成中空玻璃使用是当今最好的节能玻璃,相对单片玻璃可节能70%. 热反射镀膜玻璃又叫阳光控制镀膜玻璃.顾名思义,其作用是对阳光的透过进行调节——遮挡阳光,实现节能(仅对制冷环境).它对热量最足的远红外线没有作用.节能性能明显不如Low-E玻璃! 具备上述两种功能的镀膜玻璃就是遮阳型Low-E玻璃.单纯的Low-E玻璃基本没有颜色,热反射镀膜玻璃有灰色、蓝色、绿色等,遮阳型Low-E玻璃同后者. 在线和离线是两种完全不同的镀膜方法.前者在浮法玻璃生产线上完成,膜层单一,牢固度好,可以单片使用;后者则离开了浮法生产线,在真空*极磁控溅射镀膜生产线上完成,膜层多样,隔热性能明显优于在线Low-E玻璃,但牢固度较差,不能单片使用.
什么叫中频磁控溅射?
中频磁控溅射的原理是基于*极辉光放电理论,把*极表面磁场扩展到接近工件表面,提高了溅射**离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。在优化*极及磁场结构镀膜时可在30A电流下工作,镀膜膜层和基底界面产生**扩散,又具有离子束辅助沉积的特点。